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深度清洗后的国产高纯矽片试产线重新启动。巨大的白色机箱发出低沉的嗡鸣，监控屏幕上数据流开始滚动：温度22.1℃，湿度39%，超纯水电阻率18.2兆欧·厘米，铜离子浓度0.03ppt，低于警戒值两个数量级。
张京京站在中央控制台前，双手抱胸，紧盯着十二块分屏上的实时参数。他身后的工程师团队鸦雀无声，所有人都知道这次重启的意义：如果清洗成功，意味着他们掌握了应对铜污染的关键技术，国产矽片的量产之路就迈过了最危险的坎；如果失败……
「第一批矽片开始清洗工序。」操作员报告，声音在寂静的控制室里显得格外清晰。
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屏幕上，机械臂将三片十二英寸的测试用矽片送入清洗槽。超纯水以精确控制的流速冲刷着矽片表面，超声波发生器启动，发出人耳听不见的高频振动。
「清洗液流量稳定，超声功率正常，温控在设定值±0.1℃范围内。」
张京京的目光锁定在铜离子监测曲线上。那条绿色的线平稳得近乎完美，在0.02到0.04ppt之间轻微波动，这是环境本底水平，说明系统是乾净的。
清洗持续了十五分钟。按照吴文山提供的方案，这是第一步「螯合剂冲洗」的时间。
「清洗结束，开始纯水漂洗。」
矽片被转移到漂洗槽，更高纯度的水流洗去残留的化学药剂。这是最危险的环节：如果系统里还有铜污染源，漂洗过程会将其暴露无遗。
时间一秒一秒过去。
控制室里只有设备运行的嗡鸣和偶尔的按键声。
「漂洗三分钟，铜离子浓度0.05ppt。」
「漂洗五分钟，铜离子浓度0.07ppt。」
「漂洗七分钟，铜离子浓度0.11ppt。」
数据在缓慢上升，但仍在安全范围内。张京京微微松了口气。按照经验，如果有污染，前五分钟就会急剧飙升。
「漂洗十分钟，完成。矽片传送至乾燥区。」
机械臂平稳地将矽片送出，送入氮气乾燥舱。整个过程看起来无懈可击。
「取样检测。」张京京下令。
三片矽片中的一片被送入旁边的快速分析室。三十秒后，初步结果在大屏上弹出：
**表面金属污染扫描结果**
-**铁：＜0.01ppt**
-**镍：＜0.01ppt**
-**铜：0.09ppt**
「低于0.1ppt！」控制室里爆发出压抑的欢呼。这个数值意味着矽片表面的铜污染已经控制在工艺允许范围内，可以进行后续的氧化丶光刻等工序了。
张京京紧绷的肩膀终于放松下来。他拿起加密电话，准备向陈醒和林薇报喜。
但就在他的手指即将触到拨号键时，刺耳的警报声突然撕裂了控制室的平静。
不是一声，是接连三声。
「警报！超纯水储罐B-3铜离子浓度异常！」