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巨大的双层隔离观察窗外，金秉洙博士的眼睛布满血丝，盯着主控屏幕上那条缓慢但持续下滑的曲线，EUV输出功率稳定度：96.3%，距离昨夜梁志远报告时的96.7%又跌了0.4个百分点，而且没有止跌迹象。
实验室内部，真空泵组的低吼声中，技术人员正在执行紧急在线清洗程序。十二个清洗喷头从机械臂上精准伸出，向EUV光源核心光学腔体内喷射特制的高纯度氩气-氦混合等离子流。这是金秉洙团队设计的「非接触式镜面清洁技术」，理论上可以在不停机情况下清除镜面上纳米级污染物。
「清洁流压力提升至额定值110%。」一名年轻工程师的声音在通讯频道里响起，带着明显的紧张，「等离子体密度达到标准，开始计时。」
「所有光学传感器数据同步记录。」金秉洙的声音嘶哑，「特别注意第二反射镜组后的光强分布变化。」
屏幕上，数十个监测点的数据开始跳动。最初五分钟，EUV输出功率稳定度出现了微弱的回升迹象，从96.3%缓慢爬升至96.5%。实验室里有人轻轻松了口气。
但金秉洙的眉头皱得更紧了。他太了解这台耗费了五年心血的「追光二期」原型机了，如果问题真的只是镜面污染，在线清洗后的恢复曲线应该是陡峭的，而不是这种有气无力的爬升。
果然，在清洗程序进行到第八分钟时，异变陡生。
「警报！第四雷射束同步偏差超限！」主控系统冰冷的电子音骤然响起，「警告：锡滴击中率下降至87%！」
屏幕上，代表十六道子雷射束同步状态的波形图突然紊乱，其中第四束光的相位明显落后于其他光束。更致命的是，锡滴喷射系统监控画面显示，原本应该被雷射精准击中的液态锡微滴，有超过13%偏离了预定轨道，未能被完全汽化形成等离子体。
「停止清洗！立即停止！」金秉洙几乎是对着麦克风吼出来，「切换到手动模式，保留第七到第十二束雷射，关闭其馀光束！」
操作员的手指在控制台上飞舞。但就在切换指令发出后的0.3秒内，主监控屏上爆出一片刺眼的红色警报。
「腔体压力异常上升！真空度从10^-7帕跌落至10^-5帕！」
「锡滴收集器温度飙升，超过安全阈值！」
「紧急停机程序启动！所有雷射器安全闭锁！」
巨大的嗡鸣声骤然停止，实验室陷入一种令人心悸的寂静。只有冷却系统还在运转，发出低沉的丶仿佛叹息般的声音。
金秉洙一拳砸在控制台上，不锈钢台面发出沉闷的回响。他身后的团队成员们脸色苍白，这次紧急停机，意味着至少需要48小时来重启系统丶排查故障丶重新校准。而按照「深红路线图」的时间表，「追光二期」必须在两周内完成连续168小时的长稳测试，才能为14nmEUV工艺验证提供可靠的光源保障。
「金博士。」一个冷静的声音从身后传来。
金秉洙猛地回头，看到陈醒不知何时已经站在观察窗前。他穿着简单的黑色工装，