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第198章 国产EUV光源突
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第198章 国产EUV光源突破

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    华夏芯谷EUV光源实验室的恒温车间里,空气仿佛被持续数年的高压凝成了固态。
    巨大的二氧化碳雷射器阵列占据了半个厂房,发出低沉的嗡鸣,如同蛰伏的巨兽。
    核心测试区的观察窗后,金秉洙博士双手紧握护栏,指节因用力而泛白,布满血丝的眼睛死死盯着主控屏幕上那条代表着生命线的绿色曲线,EUV光源实时功率稳定度,此刻正顽强地停留在97.2%。
    距离量产要求的98%仅一步之遥,这一步,却如同天堑。
    「徐教授,情况不乐观!」
    一位年轻工程师快步走到徐文渊身边,递上最新的检测报告,声音带着焦虑,
    「连续运行四小时后,锡滴发生器喷嘴的铼铱钽合金表面,出现了微观裂纹!锡滴喷射均匀度正在下降,等离子体稳定性受到影响!」
    徐文渊接过报告,目光锐利地扫过扫描电镜图像上那些如同蛛网般蔓延的细微裂纹。
    这位材料学泰斗眉头紧锁:
    「我们目前的铼铱钽合金,抗疲劳强度已是国内顶尖,但EUV光源的环境太苛刻了,每秒数万次雷射轰击,瞬时温度超两万度,这对任何材料都是极限考验。而且……」
    他顿了顿,语气沉重,
    「我们通过特殊渠道获取的高纯度铼金属即将耗尽,后续批次国产铼的纯度,恐怕难以维持现有性能。」
    林薇站在一旁,脸色凝重。
    阿斯莫的封锁不仅限于整机,已蔓延至核心材料和部件。
    「金博士,能否调整雷射参数?适当降低峰值功率,延长脉冲宽度,或许能减轻冲击?」
    林薇提出设想。
    金秉洙缓缓摇头,语气透着疲惫:
    「我们试过了。能量一旦降低,EUV输出功率就无法满足14nm工艺的光强需求。这是一个死循环,保性能,损部件;保部件,失性能。」
    他看了一眼屏幕旁倒计时的红色数字,
    「距离『天权5号』预定的流片窗口,只剩两周了。」
    实验室里一片死寂,只有设备运行的嗡鸣,像是在为倒计时敲响丧钟。
    就在这时,陈醒的身影出现在实验室门口。
    他刚结束与「泛非项目」团队的跨洋会议,脸上带着旅途的疲惫,但眼神依旧清明锐利。
    他没有寒暄,径直走到主控屏前,默默观察了十分钟那条起伏不定的曲线。
    「问题的核心,是材料极限与能量平衡的矛盾。」
    陈醒的声音打破了沉寂,清晰而冷静,
    「我们不能在现有框架里打转,必须寻找新的突破点。徐教授,合金配方还有优化空间吗?比如引入新的元素,或者采用表层防护技术?」
    陈醒的话让徐文渊眼中一亮:
    「常规的合金强化路径我们已走到瓶颈。但如果采用原子层沉积技术,在喷嘴关键区域镀上一层纳米级的特殊保护膜,或许能极大延缓裂纹产生!只是这需要定制专用设备,工艺难度极高,时间……」
    「设备和人,我来协调!不惜一切代价!」
  
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